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抢商机 应材推新电『dian』子{zi}束量“liang”测系统

admin 科技 2021-10-29 00:01:50 27 1

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半导体设备大厂应用材『cai』料发布独特的电子束量测系统《tong》,提供大量元件上、跨晶圆和穿透多层结构进行图形量测与控制的新攻略。应材指出,当今尖端的晶片需要崭新的量测方法,已超越光学式量测、采样统计和单层制程控制〖zhi〗的限制,新推出的PROVision 3E系统提供对最先进晶片进行准确的图形制作所需的数百万个资料点,已有30套系统获晶圆代工厂及记忆体厂采用。

先进晶片是一层一层建构起来的,其过程中数十亿个结构的每一个都必须被完美地图案化和对准,才能制造出具有最佳电性《xing》的电晶体和互连架构。但随着业界普遍从简单的2D设计转向更进阶的多重成像和3D设计,如要完成晶片的每个关键层,实现最佳的晶片效能、功率、单位面积成本、上市时间,就需要突破的量测技术。

传统图形控制是利用光学叠对量测机台来实现,这些机台可以量测替代目标来协《xie》助裸晶图案对准,在裸晶分割过程中,印在裸晶切割道上的替代目标会从晶圆上移除。替代目标近似法,还包括在整个晶圆量测少量裸晶图案的方式获取采样统计。

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然而,经‘jing’过连续几代的尺寸微缩、多 duo[重图案化的广泛采用、以及导致层间失真的3D设计引进后,传统方法会造成量测缺陷,使工程师更难将预期图案与晶片上的结果作相互关联。

新的电子束系统技术,可以高速穿透晶片多层结构并直接量测整个晶圆半导体元件的结构,所以客户【hu】开始采用以大数据为基础的图形控制攻略。应用材料最新的电子束量测创新技术PROVision 3E系统就是针对这种新攻略特别设计。

应用材料影像与制程控制事业部副总裁暨总经理基思.威尔斯表示,PROVision 3E系统具备的解析度和速度,能够超越光学量测的盲点,并对整个晶圆和晶片的多层结构之间执行准确的“de”测量。同时晶片制造商还能『neng』借此获得必要的多维度资料,用以改善PPAC并加快新制程技术和晶片上市时间。

PROVision 3E系统具备的技术,能够对当今「jin」最先进设计的晶片进行图形控制,包括3奈米晶圆代工逻辑晶片、环绕闸极架构电晶体和下一代DRAM和3D NAND。

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  • 2021-10-29 00:01:50

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